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臺式XAFS、XES分析系統的發(fā)展解析
一X射線光譜學的發(fā)展現狀？x射線光譜學研究通常使用同步輻射源進行，因為同步輻射源能提供高亮度、相干、能量可調的單色X光。然而，基本同步輻射X射線發(fā)射光譜(XES)和X射線吸收光譜(XAS)的分析儀器，卻受到同步輻射的數量少和分析機時少的限制。使得很多的分析需求的科研工作者和工業(yè)客戶（Li電池公司，藥企）沒法申請到同步輻射機時。X射線吸收精細結構光譜（XAFS）作為一種描繪局部結構的方法，讓人捉摸不
2025-04-08
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單色微 X 射線熒光 (MμXRF)
微 X 射線熒光 (μXRF) 是一種元素分析技術，它允許使用單色射線檢測非常小的樣品區(qū)域（通常直徑為幾十至幾百微米）。X 射線光學晶體可捕獲來自大角度發(fā)散源的 X 射線，并將其重新引導至樣品表面上形成強聚焦光束，以此來增強 μXRF 應用。單色 μXRF（或稱 MμXRF）采用了雙曲面彎晶光學晶體，這種晶體可將高強度微米級單色 X 射線束引導至樣品表面，用于加強元素分析。與 μXRF 技術相比，
2021-07-14 TU
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單色波長色散 X 射線熒光 (MWD XRF)
雙曲面彎晶可用于增強傳統的波長色散 XRF 儀器。這些基于衍射的光學晶體能夠使用低功率空氣冷卻式 X 射線管產生高強度單色 X 射線束。根據布拉格衍射定律，這些三維形狀的光學晶體選擇性地反射用于樣品激發(fā)的極窄 X 射線波長帶。單色波長色散 X 射線熒光 (MWD XRF) 分析儀使用兩個雙曲面彎晶光學晶體。典型儀器包括低功率 X 射線管、用于激發(fā)的點對點聚焦光學晶體、樣品池、用于熒光收集的第二聚焦
2021-07-14 TU
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XRF
什么是 XRFX 射線熒光 (XRF) 是一種強大的定量和定性分析工具，用于材料的元素分析。它非常適合測量薄膜厚度和成分，按固體和溶液的重量測定元素濃度，以及鑒定復雜樣品基質中的特定元素和微量元素。XRF 分析廣泛應用于半導體、電信、微電子、金屬加工和精煉、食品、醫(yī)藥、化妝品、農業(yè)、塑料、橡膠、紡織品、燃料、化學品和環(huán)境分析等許多行業(yè)。該方法快速、準確、無損，幾乎無需樣品制備。XRF 如何工作當樣
2021-07-14
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![平行光束 X 射線衍射分析]()
平行光束 X 射線衍射分析
傳統 XRD 的主要缺點在于，它通?；诰哂懈吖β室蟮凝嫶笤O備。此外，大多數傳統儀器使用仲聚焦布拉格-布倫塔諾幾何結構，提供高分辨率和高強度光束分析等優(yōu)點，但需要應對非常精確的校直要求并需要精心制備樣品。此外，這種幾何結構要求從源到樣品的距離是恒定的，并且等于樣品到檢測儀的距離。因此產生的誤差常常導致相鑒定困難和量化不當。錯誤定位的樣品、部分透明的樣品或粗糙的樣品可能導致不可接受的樣品位移誤差。
2021-07-14 TU
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![聚焦式X射線熒光]()
聚焦式X射線熒光
XRF 的應用：共焦 X 射線熒光 打印共焦幾何結構使用兩個多毛細管聚焦光學晶體來增強 XRF 元素分析應用。激發(fā)光學晶體將小束 X 射線聚焦到樣品上。檢測光學晶體從樣品收集熒光 X 射線。具體而言，元素濃度是在由激發(fā)光學晶體的輸出焦斑與收集光學晶體的輸入焦斑的交點所確定的小探測范圍（“共焦范圍”）內測量的。該方法可用于放射性物質中元素的檢測和量化。多毛細管聚焦光學晶體用作空間濾波器，以
2020-03-02 TU
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![X射線熒光分析概述]()
X射線熒光分析概述
X射線熒光分析概述（ED-XRF、WD-XRF、XES）目前有許多方法可以激發(fā)和探測X射線熒光。激發(fā)和分析的選擇取決于研究的科學和技術需求。目前常用的三種息息相關的X射線熒光（XRF）分析方法為：能量色散XRF（ED-XRF），波長色散XRF（WD-XRF）和 X射線發(fā)射光譜（XES）。前兩種技術是具有廣泛工業(yè)和研究應用的主力方法， XES一直局限于同步加速器光源。目前用戶自搭建XES系統可以得到
2020-03-02
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![高精度X射線熒光]()
高精度X射線熒光
高清 X 射線熒光 (HDXRF) 的優(yōu)點?打印?XOS 將HDXRF技術應用于玩具和消費品中的管制元素的快速檢測高清 X 射線熒光 (HDXRF) 是新一代管制元素檢測技術，可幫助制造商和監(jiān)管機構解決這一重要的公共健康問題。HDXRF 將快速檢測和精確度的優(yōu)勢進行了前所未有的結合。HDXRF 的優(yōu)點快速得出結果更快的測量速度使其能夠檢查更多的玩具；比傳統分析技術快 100 多
2019-08-23
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![微 X 射線熒光 (μXRF)]()
微 X 射線熒光 (μXRF)
微 X 射線熒光 (μXRF) 打印微 X 射線熒光 (μXRF) 是一種元素分析技術，它允許檢測非常小的樣品區(qū)域。與傳統的 XRF 儀器一樣，微 X 射線熒光通過使用直接 X 射線激發(fā)來誘導來自樣品的特性 X 射線熒光發(fā)射，以用于元素分析。與傳統 XRF 不同（其典型空間分辨率的直徑范圍從幾百微米到幾毫米），μXRF 使用 X 射線光學晶體來限制激發(fā)光束尺寸或將激發(fā)光束聚焦到樣品表面上
2019-05-09
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![波長色散 X 射線熒光 (WDXRF)]()
波長色散 X 射線熒光 (WDXRF)
波長色散 X 射線熒光 (WDXRF)波長色散 X 射線熒光 (WDXRF) 是用于元素分析應用的兩種通用型 X 射線熒光儀器之一。在 WDXRF 光譜儀中，樣品中的所有元素同時被激發(fā)。樣品發(fā)射的特性輻射的不同能量被分析晶體或單色儀衍射到不同方向（類似于棱鏡將不同顏色的可見光分散到不同方向）。通過將檢測儀置于一定角度，可以測量具有一定波長的 X 射線的強度。連續(xù)光譜儀使用測角儀上的移動探測器使其移
2019-05-09
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![能量色散 X 射線熒光 (ED XRF)]()
能量色散 X 射線熒光 (ED XRF)
能量色散 X 射線熒光 (ED XRF)?打印能量色散 X 射線熒光 (EDXRF) 是用于元素分析應用的兩種通用型 X 射線熒光技術之一。在 EDXRF 光譜儀中，樣品中的所有元素都被同時激發(fā)，而能量色散檢測儀與多通道分析儀相結合，用于同時收集從樣品發(fā)射的熒光輻射，然后區(qū)分來自各個樣品元素的特性輻射的不同能量。EDXRF 系統的分辨率取決于檢測儀，通常范圍為 150 eV - 600
2019-05-09
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![XRD]()
XRD
X射線衍射 (XRD) 依賴于 X 射線的雙波/顆粒性質來獲得關于晶體材料結構的信息。該技術的主要用途是根據其衍射圖對化合物進行鑒定和特性描述。當單色 X 射線的入射束與目標材料相互作用時，發(fā)生的顯性效應是，這些 X 射線從目標材料內的原子進行散射。在具有規(guī)則結構（即晶體）的材料中，散射的 X 射線會經歷相長干涉和相消干涉。這就是衍射的過程。晶體對 X 射線的衍射遵循布拉格定律，nλ = 2dsi
2019-05-09
