EUV Schwarzschild鏡-for 13.5nmMagnification: 21.34NA: 0.2Focal length: 26.95 mmDiffraction limited!λ= 13.5: 40 nmMechanical holder:Material: InvarOverall weight: 4.9 kg Pinhole array test s
得益于北京眾星聯(lián)恒科技有限公司在中國X射線、極紫外的專注，近10年的積累，對于極紫外光學(xué)技術(shù)及中國有較為深入的了解。而德國optiXfab公司于2012年開始商業(yè)化Fraunhofer研究所的Mo/Si多層膜專利技術(shù)，至今已經(jīng)給客戶生產(chǎn)了近2萬片鏡片，中大多數(shù)都是半導(dǎo)體工業(yè)的客戶，如LLP光源的收集鏡及Schwarzschild物鏡等。經(jīng)過雙方充分的討論及密切，我們共同決定將在半導(dǎo)體工業(yè)應(yīng)用成熟的鍍膜技術(shù)推廣基于HHG，激光驅(qū)動等離子小型極紫外光源的科研應(yīng)用，針對中國市場聯(lián)合推出的1英寸的高性能13.5nm多層膜鏡片，并在中國辦公室備有庫存，以實現(xiàn)鏡片的快速交付。
Schwarzschild 物鏡因其大孔徑、高機械穩(wěn)定性和無色差的特點而越來越多地用于 EUV 光譜區(qū)域的成像光學(xué)器件。 EUV Schwarzschild 物鏡由Mo/Si多層膜的主鏡子和次鏡組成，在其上可以使用球面和非球面。 光學(xué)元件無應(yīng)力，并使用固態(tài)鉸鏈進(jìn)行機械穩(wěn)定安裝。 可以在操作期間對鏡子進(jìn)行校正調(diào)整。
主要參數(shù)
| 20x | 10x | |
| 倍率 | 21.34 | 9.8 |
| NA | 0.2 | 0.44 |
| 焦點距離 | 26.95 | 53.06 |
| 波長 | 13.5nm | 13.5nm |
| 主鏡ー１ | ||
| 曲率 | 100mm | 140mm |
| 直徑 | 52mm | 106mm |
| 次鏡ー２ | ||
| 曲率 | -35mm | -175mm |
| 直徑 | 11mm | 48mm |
