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極紫外/13.5nm菲涅爾波帶片

襯度材料:SiO2 襯度材料厚度:~250nm支撐薄膜材料:Si支撐薄膜厚度:~200nm支撐薄膜透過(guò)率: 預(yù)計(jì)衍射效率>14% @13.5nm主要應(yīng)用方向:相干衍射成像掩模版檢測(cè)

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襯度材料:SiO2 

襯度材料厚度:~250nm

支撐薄膜材料:Si

支撐薄膜厚度:~200nm

支撐薄膜透過(guò)率:~70%


預(yù)計(jì)衍射效率>14% @13.5nm


典型應(yīng)用:

  • 相干衍射成像

  • 掩模版檢測(cè)

  • EUV顯微成像

  • 角分辨光電子能譜



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