13.5nm菲涅爾波帶片

襯度材料：SiO2 襯度材料厚度：~250nm支撐薄膜材料：Si支撐薄膜厚度：~200nm支撐薄膜透過率：預計衍射效率>14% @13.5nm主要應用方向：相干衍射成像掩模版檢測

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眾星合作伙伴-XRnanotech介紹

XRnanotech是瑞士知名的Paul Scherrer Institute研究所10多年研發(fā)的結晶，于2020年成立，旨在將最新的突破性X射線光學創(chuàng)新引入市場。瑞士XRnanotech專注于研究納米結構，開發(fā)和制造最具創(chuàng)新性的X射線光學器件，以實現(xiàn)最高分辨率、效率、穩(wěn)定性和設計質量。產(chǎn)品線包括菲涅耳波帶片、納米級光柵、金剛石光學器件、納米分辨率測試卡、3D分辨率測試卡等。XRnanotech 制造的菲涅耳波帶片分辨率可低至<10nm，憑借獨特的 Ir-線倍增技術，可以獲得精確到 5nm 的 X 射線束聚焦，這使得 XRnanotech 成為 X 射線透鏡世界紀錄保持者。

同時為了讓科研人員和工程師能快速開始實驗，我們備有多種規(guī)格的極紫菲涅爾波帶片（FZP），以實現(xiàn)FZP的快速交付。

襯度材料：SiO2

襯度材料厚度：~250nm

支撐薄膜材料：Si

支撐薄膜厚度：~200nm

支撐薄膜透過率：~70%

預計衍射效率>14% @13.5nm

典型應用：

相干衍射成像
極紫外掩模版檢測
EUV顯微成像
角分辨光電子能譜